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GCVD系列管式炉

GCVD系列管式炉

发布日期:2015-7-27 浏览次数:981

  应用领域:

CVD气氛管式炉广泛应用于高中低温CVD工艺,例如:碳纳米管的研制、纳米氧化锌的可控生长、晶体硅基板镀膜、金属或非金属在真空或气氛条件下的焊接、烧结等工艺。

 

  主要特点:

* 高纯石英管或刚玉管作为内炉膛,可拆卸式的三面密封法兰,具有优良的洁净度和真空度。

* 全部采用超轻质的陶瓷纤维制品耐火保温,整机结构小、能耗低、升温快。

* 加热元件采用进口Kanthal电阻丝或U型硅钼(碳)棒,寿命长。

* 温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪控制,具有良好的稳定性和一致性。

 

   技术参数:

设备型号:

GCVD(D)-06/30/1

GCVD(Z)-07/40/1

GCVD(G)-09/50/1

GCVD(G)-06/50/2

最高温度:

1050℃

1300℃

1650℃

1650℃

使用温度:

RT~1000℃

RT~1250℃

RT~1600℃

RT~1600℃

控制精度:

±1℃

±1℃

±1.5℃

±1.5℃

温区个数:

1个

1个

1个

2个

炉管材质:

高纯石英

99刚玉

99刚玉

99刚玉

发热元件:

Kanthal电阻丝

进口电阻丝/硅碳棒

硅钼棒

电阻丝、硅钼棒

加热区长度:

300mm

400mm

500mm

500mm

炉管尺寸:

Ф60×1000

Ф70×1100

Ф90×1300

Ф60×1450

加热功率:

3Kw

4Kw

10Kw

8Kw

 

注:以上真空气氛管式炉具备冷态极限真空6.67×10-3Pa,并可根据实际要求非标定制。

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